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鈣鈦礦蒸鍍薄膜檢測設備，觸摸屏控制，可調節(jié)功率和蒸鍍時間，配有樣品擋板能精確控制鍍膜時間，保護樣品

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金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射

金靶材鍍膜磁控濺射，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射

直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射

制備LK-99 可選用 微型探針太臺測試材料，可預留接口以備安裝電子閥及流量計之用，充入其它氣體使用，溫度范圍為77.15K至673.15K（-196攝氏度到400攝氏度）

超導體材料lk99 可用真空探針臺測試材料，可預留接口以備安裝電子閥及流量計之用，充入其它氣體使用，溫度范圍為77.15K至673.15K（-196攝氏度到400攝氏度）

超導體材料研究 真空高低溫液氮探針臺，可預留接口以備安裝電子閥及流量計之用，充入其它氣體使用，溫度范圍為77.15K至673.15K（-196攝氏度到400攝氏度）

高真空分子泵組 真空度控制系統(tǒng)，有分子泵接口和機械泵家口，一臺泵組兩用，空載極限壓強為1X10-4Pa

高真空測量系統(tǒng)分子泵組，有分子泵接口和機械泵家口，一臺泵組兩用，空載極限壓強為1X10-4Pa